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快速紅外鍍金聚焦爐
  • 快速紅外鍍金聚焦爐
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產(chǎn)品描述

總功率16KW 加熱溫度≤800℃ 升溫速度≥10K/min 溫度穩(wěn)定時間≤15min 設(shè)備外形尺寸600mm×600mm×1320mm 工作噪音≤50dB 功率調(diào)節(jié)方式采用PID+可控硅調(diào)整 較大勻熱面積45mm×45mm

快速紅外輻射鍍金聚焦爐

      許昌市紅外技術(shù)研究所有限公司致力于為中國航天航空、科研院所提供高|端紅外加熱儀器設(shè)備及相關(guān)應用解決方案,我們同時可以按照用戶的要求定制各種高|端集成系統(tǒng),或為用戶提供系統(tǒng)改裝等服務。許昌市紅外技術(shù)研究所為客戶提供系統(tǒng)參觀、樣品測試、售后服務等服務。 一、 產(chǎn)品簡介: 本產(chǎn)品以優(yōu)|質(zhì)紅外發(fā)熱管為加熱元件,采用紅外線鏡面反射技術(shù),研制出快速紅外輻射鍍金聚焦爐。該加熱裝置解決了傳統(tǒng)電爐升降溫速度慢、使用效率低等難點,控制部分采用智能化控溫系統(tǒng),可控硅控制,爐體為雙層爐殼,采用水冷系統(tǒng)/風冷系統(tǒng),延長加熱元件壽命。 二、技術(shù)參數(shù): 1、溫度:1700℃,長期使用溫度:1600℃ 2、區(qū)間升溫速率: >280℃/s 3、功率:220380V 6.0 -36kw 4、加熱方式:紅外輻射加熱; 5、加熱區(qū)間:點、線(柱狀) 、面加熱; 6、反射面冷卻方式:水冷; 7、控溫精度:±1℃ 8、溫度顯示精度:0.1℃ 9、控制方式:配備智能溫控儀表,可控硅控制,可實現(xiàn)30段程序控溫。 三、主要功能和特點: 1、可擴展在真空/不同氣氛/不同環(huán)境下,對不同產(chǎn)品、樣品進行快速熱處理; 2、溫控精度高; 3、適合高校、科研院所、企業(yè)實驗室使用; 4、操作方便,試樣裝取容易; 5、價格合理,性價比高。 四、主要用途: 1、電子材料 1)硅(Si)和化合物半導體的實時分析器(RTA); 2)薄膜成型的熱源; 3)離子注入后的器; 4)硅化物成型的熱源。 2、陶瓷材料/無機材料 1)陶瓷基片層壓板的退火爐; 2)玻璃基片的退火爐; 3)陶瓷拉伸、彎曲試驗的退火爐; 4)超導陶瓷的退火爐; 5)陶瓷加熱、循環(huán)加熱試驗的退火爐。 3、鋼制材料/金屬材料 1)薄鋼板加熱過程分析爐; 2)焊接分析爐; 3)高溫(1000℃以下)真空加熱試驗爐; 4)大氣條件熔化過程分析爐; 5)高壓下,難熔鋼和鋁循環(huán)加熱試驗爐; 4、復合材料 1)絕熱性評估測試用爐; 2)無機化合物循環(huán)加熱試驗爐。 5、其他 1)高溫條件下,拉伸、壓縮試驗用爐; 2)分段控制爐; 3)溫度梯度爐; 4)析體分析爐。 在過去的三十多年中,我們一直提供面向客戶需求的服務、可靠的系統(tǒng)設(shè)計和穩(wěn)定的紅外輻射加熱技術(shù)解決方案,以確保系統(tǒng)w美地運行。此刻,我們的產(chǎn)品正運行在中國企業(yè)、載人航天研究機構(gòu)、高校實驗室、飛機制造廠等單位。隨著國內(nèi)合作伙伴增加的同時,我們也致力于拓展全球市場。我們的的設(shè)備已經(jīng)出口印度、日本科威特、巴基斯坦等國。 許昌紅外所將一如既往地保持對紅外輻射加熱技術(shù)的研發(fā),以提高安q、效率、可靠性和系統(tǒng)壽命,為您,提供z正的紅外加熱技術(shù)解決方案。


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產(chǎn)品推薦

Development, design, production and sales in one of the manufacturing enterprises

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